< img height="1" width="1" style="display:none" src="https://www.facebook.com/tr?id=1663378561090394&ev=PageView&noscript=1" /> Bester [VLP] Hersteller und Fabrik für ED-Kupferfolien mit sehr niedrigem Profil | Civen

[VLP] Sehr flache ED-Kupferfolie

Kurze Beschreibung:

VLP, sehrflache elektrolytische Kupferfolie, hergestellt vonCIVEN METALL hat die Eigenschaften von niedrig Rauheit und hohe Abziehfestigkeit. Die durch Elektrolyseverfahren hergestellte Kupferfolie zeichnet sich durch hohe Reinheit, geringe Verunreinigungen, glatte Oberfläche, flache Plattenform und große Breite aus. Die elektrolytische Kupferfolie lässt sich nach einseitigem Aufrauen besser mit anderen Materialien laminieren und lässt sich nicht so leicht abziehen.


Produktdetail

Produkt Tags

Produkteinführung

VLP, die sehr flache elektrolytische Kupferfolie von CIVEN METAL, zeichnet sich durch geringe Rauheit und hohe Abziehfestigkeit aus. Die durch Elektrolyseverfahren hergestellte Kupferfolie zeichnet sich durch hohe Reinheit, geringe Verunreinigungen, glatte Oberfläche, flache Plattenform und große Breite aus. Die elektrolytische Kupferfolie lässt sich nach einseitigem Aufrauen besser mit anderen Materialien laminieren und lässt sich nicht so leicht abziehen.

Technische Daten

CIVEN kann ultraflache, duktile Elektrolytkupferfolien (VLP) für hohe Temperaturen von 1/4 oz bis 3 oz (Nenndicke 9 µm bis 105 µm) liefern, und die maximale Produktgröße beträgt 1295 mm x 1295 mm Kupferfolienblech.

Leistung

CIVEN Bietet ultradicke Elektrolytkupferfolie mit hervorragenden physikalischen Eigenschaften wie gleichachsigem Feinkristall, niedrigem Profil, hoher Festigkeit und hoher Dehnung. (Siehe Tabelle 1)

Anwendungen

Anwendbar für die Herstellung von Hochleistungsleiterplatten und Hochfrequenzplatinen für die Automobil-, Energie-, Kommunikations-, Militär- und Luft- und Raumfahrtindustrie.

Eigenschaften

Vergleich mit ähnlichen ausländischen Produkten.
1. Die Kornstruktur unserer elektrolytischen VLP-Kupferfolie ist gleichachsig und feinkristallin, während die Kornstruktur ähnlicher ausländischer Produkte säulenförmig und lang ist.
2. Elektrolytische Kupferfolie hat ein ultraflaches Profil, 3 oz Kupferfolie, Bruttooberfläche Rz ≤ 3,5 µm; während ähnliche ausländische Produkte ein Standardprofil haben, 3 oz Kupferfolie, Bruttooberfläche Rz > 3,5 µm.

Vorteile

1. Da unser Produkt ein ultraflaches Profil hat, wird das potenzielle Risiko eines Leitungskurzschlusses aufgrund der großen Rauheit der standardmäßigen dicken Kupferfolie und des leichten Durchdringens der dünnen Isolierfolie durch den „Wolfszahn“ beim Drücken der doppelseitigen Platte vermieden.
2. Da die Kornstruktur unserer Produkte aus gleichachsigen, feinen Kristallkugeln besteht, verkürzt sich die Zeit für das Linienätzen und das Problem des ungleichmäßigen Linienseitenätzens wird behoben.
3. Hohe Abziehfestigkeit, keine Kupferpulverübertragung, klare Grafikleistung bei der Leiterplattenherstellung.

Leistung (GB/T5230-2000, IPC-4562-2000)

Einstufung

Einheit

9 μm

12 μm

18 μm

35 μm

70 μm

105 μm

Cu-Gehalt

%

≥99,8

Flächengewicht

g/m2

80 ± 3

107 ± 3

153 ± 5

283 ± 7

585 ± 10

875±15

Zugfestigkeit

RT (23 °C)

kg/mm2

≥28

HT (180℃)

≥15

≥18

≥20

Verlängerung

RT (23 °C)

%

≥5,0

≥6,0

≥10

HT (180℃)

≥6,0

≥8,0

Rauheit

Glänzend (Ra)

μm

≤0,43

Matt (Rz)

≤3,5

Schälfestigkeit

RT (23 °C)

kg/cm

≥0,77

≥0,8

≥0,9

≥1,0

≥1,5

≥2,0

Abbaurate von HCΦ (18 % – 1 Std./25 °C)

%

≤7,0

Farbänderung (E-1,0 Std./200 °C)

%

Gut

Löten schwimmend 290℃

Sek.

≥20

Aussehen (Flecken und Kupferstaub)

----

Keiner

Lochkamera

EA

Null

Größentoleranz

Breite

mm

0~2 mm

Länge

mm

----

Kern

mm/Zoll

Innendurchmesser 79 mm/3 Zoll

Notiz:1. Der Rz-Wert der Bruttooberfläche der Kupferfolie ist der teststabile Wert, kein garantierter Wert.

2. Die Abzugsfestigkeit entspricht dem Standardtestwert für FR-4-Platten (5 Blätter 7628PP).

3. Die Qualitätssicherungsfrist beträgt 90 Tage ab dem Datum des Eingangs.


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