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Kupferfolie und Kupferband: Eine umfassende Analyse von Produktionsprozessen bis hin zu Anwendungsszenarien

Im Bereich der kupferbasierten Materialverarbeitung „Kupferfolie" Und "Kupferstreifen„“ sind häufig verwendete Fachbegriffe. Für Laien mag der Unterschied zwischen beiden nur sprachlicher Natur sein, doch in der industriellen Produktion wirkt sich dieser Unterschied direkt auf Materialauswahl, Prozessabläufe und die Leistung des Endprodukts aus. Dieser Artikel analysiert systematisch die grundlegenden Unterschiede aus drei Schlüsselperspektiven: technische Standards, Produktionsprozesse und industrielle Anwendungen.

1. Dickenstandard: Die industrielle Logik hinter dem 0,1-mm-Schwellenwert

Aus der Perspektive der Dicke,0,1 mmist die kritische Trennlinie zwischen Kupferbändern und Kupferfolien. DieInternationale Elektrotechnische Kommission (IEC)Der Standard definiert klar:

  • Kupferstreifen: Kontinuierlich gewalztes Kupfermaterial mit einer Dicke≥ 0,1 mm
  • Kupferfolie: Ultradünnes Kupfermaterial mit einer Dicke< 0,1 mm

Diese Einteilung ist nicht willkürlich, sondern basiert auf den Eigenschaften der Materialverarbeitung:
Wenn die Dicke überschreitet0,1 mmerreicht das Material ein Gleichgewicht zwischen Duktilität und mechanischer Festigkeit und eignet sich daher für die Weiterverarbeitung wie Stanzen und Biegen. Wenn die Dicke unter0,1 mmmuss die Verarbeitungsmethode auf Präzisionswalzen umgestellt werden, wobeiOberflächenqualität und Dickengleichmäßigkeitzu kritischen Indikatoren werden.

In der modernen industriellen ProduktionKupferstreifenMaterialien liegen typischerweise zwischen0,15 mm und 0,2 mm. Zum Beispiel inAntriebsbatterien für Fahrzeuge mit neuer Energie (NEV), 0,18 mm elektrolytischer Kupferstreifenwird als Rohstoff verwendet. Durch mehr als20 Durchgänge Präzisionswalzenwird es schließlich zu ultradünnenKupferfolievon6μm bis 12μm, mit einer Dickentoleranz von±0,5 μm.

2. Oberflächenbehandlung: Technologiedifferenzierung durch Funktionalität

Standardbehandlung für Kupferstreifen:

  1. Alkalische Reinigung – Entfernt Walzölrückstände
  2. Chromatpassivierung – Bildet eine0,2–0,5 μmSchutzschicht
  3. Trocknen und Formen

Verbesserte Behandlung für Kupferfolie:

Zusätzlich zu den Kupferbandprozessen durchläuft Kupferfolie folgende Prozesse:

  1. Elektrolytische Entfettung – Verwendung3-5A/dm² Stromdichtebei50-60°C
  2. Oberflächenaufrauhung auf Nanoebene – Steuert den Ra-Wert zwischen0,3–0,8 μm
  3. Antioxidations-Silanbehandlung

Diese zusätzlichen Prozesse dienenspezielle Endnutzungsanforderungen:
In Herstellung von Leiterplatten (PCB), Kupferfolie muss eineBindung auf molekularer Ebenemit Harzsubstraten. SogarÖlrückstände im Mikronbereichkann verursachenDelaminationsdefekteDaten eines führenden Leiterplattenherstellers zeigen, dasselektrolytisch entfettete KupferfolieverbessertSchälfestigkeit um 27 %und reduziertdielektrischer Verlust um 15 %.

3. Branchenpositionierung: Vom Rohstoff zum Funktionswerkstoff

Kupferstreifendient als„Grundstofflieferant“in der Lieferkette, hauptsächlich verwendet in:

  • Kraftausrüstung: Transformatorwicklungen (0,2–0,3 mm dick)
  • Industrielle Steckverbinder: Anschlussleitbleche (0,15–0,25 mm dick)
  • Architekturanwendungen: Dachabdichtungsschichten (0,3–0,5 mm dick)

Im Gegensatz dazu hat sich Kupferfolie zu einem„Funktionsmaterial“das ist unersetzlich in:

Anwendung

Typische Dicke

Wichtige technische Merkmale

Lithiumbatterieanoden 6–8 μm Zugfestigkeit≥ 400 MPa
5G Kupferkaschiertes Laminat 12 μm Low-Profile-Behandlung (LP-Kupferfolie)
Flexible Schaltungen 9 μm Biegefestigkeit>100.000 Zyklen

EinnahmeStrombatterienKupferfolie beispielsweise macht10-15%der Zellmaterialkosten. Jeder1μm Reduzierungin der Dicke nimmt zuBatterieenergiedichte um 0,5 %. Aus diesem Grund mögen BranchenführerCATLtreiben die Dicke der Kupferfolie auf4 μm.

4. Technologische Evolution: Verschmelzung von Grenzen und funktionale Durchbrüche

Mit den Fortschritten in der Materialwissenschaft verschiebt sich die traditionelle Grenze zwischen Kupferfolie und Kupferstreifen allmählich:

  1. Ultradünner Kupferstreifen: 0,08 mm „Quasi-Folien“-Produktewerden jetzt verwendet fürelektromagnetische Abschirmung.
  2. Verbundkupferfolie: 4,5 μm Kupfer + 8 μm Polymersubstratbildet eine „Sandwich“-Struktur, die physikalische Grenzen durchbricht.
  3. Funktionalisierter Kupferstreifen: Kohlenstoffbeschichtete Kupferstreifen öffnenneue Grenzen bei Brennstoffzellen-Bipolarplatten.

Diese Innovationen erfordernhöhere Produktionsstandards. Laut einem großen KupferproduzentenMagnetron-Sputter-Technologiefür zusammengesetzte Kupferbänder hat sich verringertFlächenwiderstand um 40 %und verbessertBiegeermüdungslebensdauer um das Dreifache.

Fazit: Der Wert hinter der Wissenslücke

Den Unterschied verstehen zwischenKupferstreifenUndKupferfoliegeht es im Wesentlichen darum, die„quantitativ zu qualitativ“Veränderungen in der Werkstofftechnik. Von der0,1 mm DickenschwelleZuOberflächenbehandlungen im MikronbereichUndGrenzflächenkontrolle im Nanometerbereich, jeder technologische Durchbruch verändert die Branchenlandschaft.

ImÄra der KohlenstoffneutralitätDieses Wissen wird direkten Einfluss aufdie Wettbewerbsfähigkeit eines Unternehmensim Bereich der neuen Materialien. SchließlichStrombatterieindustrie, A0,1 mm Lücke im Verständniskönnte bedeuten,ganze Generation technologischer Unterschiede.


Veröffentlichungszeit: 25. Juni 2025